Xüsusiyyətlər:

1) Nitridləşmə sürəti daha sürətlidir, nitridləşmə dövrü müvafiq şəkildə qısaldıla bilər və ion nitridləşmə müddəti qaz nitridləşmə müddətinin 1/3-2/3 hissəsinə qədər qısaldıla bilər.

2) Nitrid təbəqəsinin kövrəkliyi azdır və plazma nitrid səthində əmələ gələn ağ təbəqə çox nazikdir və ya ümumiyyətlə yoxdur. Bundan əlavə, nitrid təbəqəsinin yaratdığı deformasiya azdır, bu da xüsusilə mürəkkəb formalı dəqiq hissələr üçün uyğundur.

3) Enerji və ammonyak istehlakına qənaət etmək olar. Elektrik enerjisi istehlakı qaz nitridləşməsinin 1/2-1/5 hissəsinə, ammonyak istehlakı isə qaz nitridləşməsinin 1/5-1/20 hissəsinə bərabərdir.

4) Nitridləşməni istəməyən hissə parıltı yaratmadığı müddətcə, nitridləşməmiş hissəni qorumaq asandır və parıltı mexaniki qoruyucu və dəmir lövhə ilə qoruna bilərsə, yerli nitridləşməni həyata keçirmək asandır.

5) İon bombardmanı səthi təmizləyə və passivasiya filmini avtomatik olaraq çıxara bilər. Paslanmayan polad və istiliyədavamlı polad əvvəlcədən passivasiya filmini çıxarmadan birbaşa nitrid edilə bilər.

6) Mürəkkəb təbəqənin quruluşu, infiltrasiya təbəqəsinin qalınlığı və quruluşu idarə oluna bilər.

7) Müalicə temperaturu diapazonu genişdir və 350 C-dən aşağı temperaturda belə müəyyən bir nitrid təbəqəsi qalınlığı əldə edilə bilər.

8) Əmək şəraiti yaxşılaşdırılıb. Çirklənmədən azad və plazma nitridləmə emalı çox aşağı təzyiq altında, çox az işlənmiş qazla həyata keçirilir. Qaz mənbəyi azot, hidrogen və ammonyakdır və əsasən zərərli maddələr əmələ gəlmir.

9) Paslanmayan polad, yüksək nitridləmə temperaturuna malik istiliyədavamlı polad, alət poladı və aşağı nitridləmə temperaturuna malik dəqiq hissələr də daxil olmaqla hər cür materiala tətbiq oluna bilər, aşağı temperaturlu nitridləmə isə qaz nitridi üçün olduqca çətindir.